半导体行业对操纵室清洁度要求极高，通常使用风机抽取工艺过程中挥发的各类废气进行废气处理，因此半导体行业废气排放具有排气量大、排放浓度小的特点。所以，半导体废气处理方法一般采用先浓缩然后进行燃烧处理，下面跟恒峰蓝小编一起来了解下。
半导体废气排放主要可以分为四类：酸性气体、碱性气体、有机废气和有毒气体。
半导体废气处理方法通常先用沸石转轮对VOCs进行吸附浓缩之后，再用直接燃烧法进行销毁，废气净化率达到97%以上。 直接燃烧又称为直接火焰燃烧，它是把VOCs可燃组分直接烧掉，因此该方法合用于净化可燃有害组分浓度较高的废气，或者净化有害组分燃烧时热值较高的废气；多种可燃气体或多种溶剂蒸气混合在废气中，只要浓度值相宜，也可以直接燃烧。假如可燃组分的浓度高于燃烧上限，可以混入空气后燃烧；假如可燃组分的浓度低于燃烧下限，则可以加入一定数目的辅助燃料如自然气等，维持燃烧。
直接燃烧法一般采用RTO蓄热式焚烧炉设备，简称“RTO设备”，是采用高温破坏焚烧的废气管理技术。采用的升温能源一般是电和自然气，固然采用高温700℃的温度进行废气处理，但实在消耗的能源并未几，这是由于设备能够将热能回收利用，大大降低能量消耗的同时进步了废气分子的燃烧反应速率。设备的主体由燃烧室、陶瓷填料床和转换阀等构成。设备的净化效率也维持不乱在99%以上。
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